जर्नल ऑफ़ स्टेम सेल रिसर्च एंड थेरेपी

अमूर्त

पूर्ण मोटाई वाले घाव भरने में एडीपोज़-व्युत्पन्न मेसेनकाइमल स्टेम कोशिकाओं की भूमिका

इस्विनार्नो डोसोसापुत्रो, लिसेट टी होकेस्ट्रा, दिनार रहमानिया और डेविड एस पर्डानाकुसुमा

पृष्ठभूमि : पूर्ण-मोटाई वाले ग्राफ्ट की कटाई के बाद डोनर के घावों में घाव भरने की समस्याएँ उत्पन्न हो सकती हैं। घावों पर मेसेनकाइमल स्टेम सेल (MSCs) वापस करने से घाव भरने में तेज़ी आ सकती है। इस अध्ययन का उद्देश्य पूर्ण-मोटाई वाले घाव भरने पर उपकलाकरण प्रक्रिया और कोलेजन घनत्व में MSCs के प्रभाव का विश्लेषण करना है।

विधियाँ : पायलट अध्ययन में 10 मरीज़ शामिल थे, जो कमर पर पूरी मोटाई वाली त्वचा के प्रत्यारोपण से गुज़र रहे थे। मरीजों को यादृच्छिक रूप से दो समूहों में विभाजित किया गया था: मेसेनकाइमल स्टेम सेल (MSCs) और गैर-मेसेनकाइमल स्टेम सेल (गैर-MSCs)। MSCs समूह ने पहले वसा की कटाई की थी जिसे मेसेनकाइमल स्टेम कोशिकाओं में संसाधित किया गया था। दोनों समूहों से 14वें दिन (प्रोलिफ़ेरेटिव चरण) और 45वें दिन (परिपक्वता चरण) बायोप्सी ली गई, और सामान्य त्वचा (NS; n=5) से तुलना की गई। एपिडर्मिस की उपकला परतों का मूल्यांकन हेमाटोक्सिलिन ईओसिन धुंधलापन के साथ किया गया। कोलेजन घनत्व का मूल्यांकन MT धुंधलापन के साथ किया गया, और एक प्रकाश माइक्रोस्कोप का उपयोग करके विश्लेषण किया गया।

परिणाम : एमएससी समूह और गैर-एमएससी समूह में, 45वें दिन एनएस-समूह की तुलना में उपकला परतों की संख्या काफी अधिक थी (क्रमशः 14.7 ± 0.70 और 8.24 ± 0.76 बनाम 5.43 ± 0.60; p<0.001 और p<0.001)। 14वें दिन एमएससी समूह में कोलेजन घनत्व एमएससी समूह में 33.3 ± 2.46% और गैर-एमएससी समूह में 45.7 ± 5.84% था, जबकि एनएस-समूह में यह 54.3 ± 3.71% था (p<0.001 और p=0.012 क्रमशः)। ये मान 45वें दिन बढ़कर एमएससी समूह में 49.2 ± 3.28% हो गए, और गैर-एमएससी समूह में 73.4 ± 1.63% हो गए।

निष्कर्ष : मेसेनकाइमल स्टेम कोशिकाओं ने सामान्य त्वचा की तुलना में पूर्ण-मोटाई घाव भरने की प्रक्रिया में उपकला परतों की संख्या में वृद्धि की। MSCs-समूह में अधिक वृद्धि देखी गई। 45वें दिन, MSCs समूह और गैर-MSCs समूह में कोलेजन घनत्व में वृद्धि देखी गई। वसा-व्युत्पन्न मेसेनकाइमल स्टेम कोशिकाओं का उपयोग पूर्ण-मोटाई घाव भरने की प्रक्रिया में किया जा सकता है। इन निष्कर्षों की पुष्टि के लिए भविष्य में यादृच्छिक नियंत्रित परीक्षणों की आवश्यकता है।