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फ्लैटेड और ग्रूव्ड इंसर्ट का उपयोग करके टर्निंग में चिप फ्लो दिशा का प्रायोगिक और सैद्धांतिक विश्लेषण - टूल रेक फेस ज्यामिति, कार्य सामग्री और कटिंग स्थितियों का प्रभाव

कौआद्री एस, बेनसारी ए और टायरेनिफी एम

यह पेपर मुख्य रूप से फ्लैटेड और ग्रूव्ड इंसर्ट का उपयोग करके टर्निंग प्रक्रिया में चिप फ्लो डायरेक्शन (CFD) के प्रायोगिक और सैद्धांतिक विश्लेषण से संबंधित है। मापी गई कटिंग फोर्स घटकों से CFD निर्धारित करने के लिए टर्निंग परीक्षण किए गए हैं। कटिंग की गति, फीड दर और कट की गहराई को बदलकर विभिन्न कटिंग स्थितियों पर विचार किया गया है। सैद्धांतिक दृष्टिकोण से, दो मॉडल लागू किए गए हैं। पहला मॉडल अपरिवर्तित चिप क्षेत्र के विवेकीकरण पर आधारित एक विश्लेषणात्मक मॉडल है। दूसरा मॉडल पूरी तरह से ज्यामितीय मॉडल है जो रेक फेस पर प्रक्षेपित कटिंग क्षेत्र की प्रमुख धुरी के लिए CFD को सामान्य मानता है। CFD पर कटिंग स्थितियों के प्रभाव को प्रयोगात्मक रूप से और अपनाए गए मॉडल द्वारा स्पष्ट रूप से हाइलाइट किया गया था। यह दिखाया गया है कि CFD कटिंग मापदंडों की ब्राउज़ की गई सीमा में कट की गहराई पर दृढ़ता से निर्भर करता है, जबकि कटिंग गति का थोड़ा प्रभाव पड़ता है। मुख्य चर्चा किए गए परिणामों में से एक CFD पर टूल रेक फेस ज्यामिति (फ्लैटेड और ग्रूव्ड) के प्रभाव से संबंधित है। अंत में, यह दिखाया गया है कि CFD मशीनी सामग्रियों पर स्वतंत्र है।

अस्वीकृति: इस सारांश का अनुवाद कृत्रिम बुद्धिमत्ता उपकरणों का उपयोग करके किया गया है और इसे अभी तक समीक्षा या सत्यापित नहीं किया गया है।