दंत चिकित्सा

अमूर्त

एसिड चैलेंज से इनेमल सतह की रिकवरी पर एक नए डेंटल जेल के प्रभाव

ट्रेसी लैम, जेसिका हो, अफ़रीन गोलाबगीर अनबरानी, ​​लिह-ह्यूई लियाव, थायर ताकेश, पेट्रा वाइल्डर-स्मिथ*

पृष्ठभूमि: उद्देश्य पूर्व-क्षरण वाले इनेमल चिप्स की सतहों पर एक नए डेंटल जेल (लिवियोनेक्स जेलआर) बनाम एक तुलनात्मक डेंटल जेल के इन विवो प्रभावों का मूल्यांकन करना था । तरीके: 1-5 दिन पर, डेंटिफ़्रिस से टूथब्रश करने के बाद, नौ विषयों में से प्रत्येक ने 4 घंटे के लिए एक तालु उपकरण पर रखे 8 इनेमल चिप्स पहने। इनेमल ब्लॉक्स को प्रतिदिन पूर्व-खनिजीकृत किया गया। 2 दिन के वॉशआउट के बाद, विषयों ने 8-12 दिन पर ताजा चिप्स और दूसरे टूथपेस्ट का उपयोग करके प्रोटोकॉल दोहराया। इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी का उपयोग करके नमूनों का मूल्यांकन किया गया। परिणाम: दस मानकीकृत इनेमल सतह फोटोमाइक्रोग्राफ/नमूना (कुल 1440 छवियाँ) का क्षरण के संकेतों के लिए दृष्टिगत रूप से और 1 मूल्यांकनकर्ता द्वारा 0-3 के पैमाने पर मूल्यांकन किया गया। निष्कर्ष: परीक्षण या नियंत्रण डेंटिफ़्रिस के उपयोग के बाद इनेमल की सतह समान दिखाई दी। इस अध्ययन के आधार पर, परीक्षण फॉर्मूलेशन ने क्षरणकारी चुनौती से इनेमल सतह की रिकवरी को प्रभावित नहीं किया। व्यावहारिक निहितार्थ: डेंटिफ़्रिस एक स्वस्थ इनेमल सतह को बनाए रखने में योगदान दे सकते हैं। उपन्यास एंटी-प्लाक तंत्र के साथ एक पूरी तरह से प्राकृतिक डेंटल जेल फॉर्मूलेशन ने एसिड चुनौती से इनेमल को नियंत्रण जेल के रूप में समान रिकवरी हासिल की।